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化學鍍鎳是一種污染非常低的工藝


化學鎳即化學鍍鎳,又稱為無電解鍍(Electroless plating),也可以稱為自催化電鍍(Autocatalytic plating)。具體過程是指:在一定條件下,水溶液中的金屬離子被還原劑還原,并且沉淀到固態基體表面上的過程。ASTM B374(ASTM,美國材料與試驗協會)中定義為Autocatalytic plating is “deposition of a metallic coating by a controlled chemical reduction that is catalyzed by the metal or alloy being deposited”。

化學鍍鎳是一種污染非常低的工藝。鎳的利用率很高。鍍液中鎳離子的濃度小于電鍍鎳的1/10。國外知名的化學鍍鎳精礦品牌已進入21世紀的中國市場。化學鍍鎳將進入一個更成熟,更有活力的時期。

鍍鎳溶液多為硫酸體系,主要成分為硫酸鎳、氯化鎳、和硼酸及添加劑。還有含有氨基磺酸鹽的鍍鎳溶液。電鍍鎳是電鍍工藝之一。清洗待鍍鎳的工件(用油去除氧氣、)并將其懸掛在含有鍍鎳溶液的鍍浴中的陰極上。陽極懸掛有非常高純度的金屬鎳。在直流電的作用下,金屬鎳被電離。狀態進入電鍍液并連續遷移到陰極。最后,電子在陰極上還原成鎳金屬,并逐漸形成金屬鎳鍍層。

電鍍工藝在無電流通過的條件下進行,也稱為化學鍍鎳。化學鍍鎳的工藝過程是:


1清洗金屬化瓷件;—— 2去離子水設備清洗;—— 3活化液浸泡;—— 4沖凈;—— 5還原溶液浸泡;—— 6浸鍍液不時調節pH值;從電鍍液中取出—— 7自鍍液中取出;—— 8沖凈;—— 9去離子水設備煮;—— 10烘干。


這一過程與置換鍍不同,其鍍層是可以不斷增厚的,且施鍍金屬本身也具有催化能力。高磷化學鍍鎳層是非晶的,鍍層表面沒有任何晶體間隙,鍍層是典型的結晶鍍層。由于施加電流,電鍍速度比化學鍍快,厚度相同。電鍍比化學鍍更早完成。
鍍鎳是使用次磷酸鹽作為還原劑通過自催化電化學反應沉積鎳 - 磷合金涂層的新技術。它具有很強的深鍍能力、良好的電鍍能力、電鍍密度、低孔隙率和其他技術特性,應用范圍已擴展到工業生產的各個領域,它是目前世界上最好的表面處理之一。
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